產(chǎn)品介紹：

華測(cè)儀器高溫管式爐主要用于陶瓷、冶金、電子、玻璃、化工、機(jī)械、耐火材料、特種材料、建材、高校、科研院所、工礦企業(yè)做粉末焙燒、陶瓷燒結(jié)、高溫實(shí)驗(yàn)、材料處理、質(zhì)高校、科研院所、工礦企業(yè)做高溫氣氛燒結(jié)、氣氛還原、CVD實(shí)驗(yàn)、真空退火等。

目前高溫加熱大都為管式爐或馬弗爐，原理為加熱絲或硅碳棒對(duì)爐體加熱，加熱與降溫速度慢，效率低下，也無法實(shí)現(xiàn)溫度的高精度測(cè)量，加熱區(qū)域也存在不均勻的現(xiàn)象，華測(cè)儀器開發(fā)了一種可實(shí)現(xiàn)高精度，高反射率的拋物面與高質(zhì)量的加熱源相配置，在高速加熱高速冷卻時(shí)，具有良好的溫度分布。可實(shí)現(xiàn)寬域均熱區(qū)，高速加熱、高速冷卻，用石英管保護(hù)加熱式樣，無氣氛污染?？稍诟哒婵?，高純度氣體中加熱。設(shè)備可組成均熱高速加熱爐，溫度斜率爐，階段加熱爐。

它提高了加熱試驗(yàn)?zāi)芰?。同電阻爐和其他爐相比，紅外線反射爐節(jié)省了升溫時(shí)間和保持時(shí)間及自然冷卻到室溫所需時(shí)間，再試驗(yàn)中也可改寫設(shè)定溫度值。從各方面講，都節(jié)省時(shí)間并提高實(shí)驗(yàn)速度。 

同高頻爐相比，不需特殊的安裝條件及對(duì)加熱試樣的要求。同電阻爐一樣安裝簡(jiǎn)單，有冷卻系統(tǒng)**可靠。以提高試驗(yàn)人員的工作效率，實(shí)現(xiàn)溫度控制操作！

本試驗(yàn)爐具有：1000度、1200度、1400度各種型號(hào)。也可根據(jù)用戶需求訂制！

華測(cè)儀器高溫管式爐使用的反射鏡是具有高精度曲率,采用5軸加工系統(tǒng)加工,以提高反射率。反射鏡有兩種類型，一種是橢圓形的，另一種是拋物線型的，它們適合各種材料的在溫度制控的條件下的測(cè)試。

設(shè)備優(yōu)勢(shì)：

高速加熱與冷卻方式：高能量的紅外燈和鍍金反射方式允許高速加熱到高溫。同時(shí)爐體可配置水冷系統(tǒng)，增設(shè)氣體冷卻裝置，可實(shí)現(xiàn)快速冷卻。

溫度高精度控制：過紅外鍍金聚焦?fàn)t和溫度控制器的組合使用，可以精準(zhǔn)控制樣品的溫度(遠(yuǎn)比普通加溫方式)。此外，冷卻速度和保持在任何溫度下可提供高精度。

不同環(huán)境下的加熱與冷卻：加熱/冷卻可用真空、氣氛環(huán)境、低溫（高純度惰性氣體靜態(tài)或流動(dòng)），操作簡(jiǎn)單，使用石英玻璃制成。紅外線可傳送到加熱/冷卻室。

用途：工礦企業(yè)、高校、研究所等做高溫?zé)Y(jié)、金屬退火、質(zhì)量檢測(cè)。粉末冶金行業(yè)以及義齒加工行業(yè)的烘烤、氧化鋯盤預(yù)燒結(jié)等。根據(jù)加熱區(qū)大小，進(jìn)行小試，中試，批量生產(chǎn)。

應(yīng)用范圍：

1. 電子材料

◆半導(dǎo)體用硅化合化的PRA（加熱后急速冷卻）

◆熱源薄膜形成

◆激活離子注入后

◆硅化物的形成

2. 陶瓷與無機(jī)材料

◆陶瓷基板退火爐

◆玻璃基板退火爐。

◆陶瓷張力、撓曲試驗(yàn)退火爐。

3. 鋼鐵和金屬材料

◆薄鋼板加熱過程的數(shù)值模擬。

◆爐焊接模擬

◆高真空熱處理（1000°C以下）

◆大氣氣體熔化過程

◆壓力下耐火鋼和合金的熱循環(huán)試驗(yàn)爐

4. 復(fù)合材料

◆耐熱性評(píng)價(jià)爐

◆無機(jī)復(fù)合材料熱循環(huán)試驗(yàn)爐

5. 其它

◆高溫拉伸壓縮試驗(yàn)爐。

◆分段分區(qū)控制爐

◆溫度梯度爐

◆爐氣分析

◆超導(dǎo)陶瓷退火爐